通過(guò)真空磁控濺射技術(shù)實(shí)現高效鍍膜:在真空腔室內，靶材(鍍膜材料)受磁場(chǎng)約束的離子轟擊，濺射出原子或分子，這些粒子沉積到勻速移動(dòng)的基材表面形成膜。生產(chǎn)線(xiàn)采用多腔室串聯(lián)設計，基材經(jīng)清洗、鍍膜、后處理等環(huán)節連續通過(guò)，各腔室獨立控制真空度與氣體成分(如通入氧氣或氮氣合成化合物膜)。傳動(dòng)系統確?；姆€定運行，配合實(shí)時(shí)膜厚監控動(dòng)態(tài)調整工藝參數，保障膜層均勻性:廣泛應用于顯示面板、太陽(yáng)能電池、汽車(chē)玻璃等領(lǐng)域。 技術(shù)特點(diǎn)： 大面積鍍膜，多室多靶位，靈活性大; 磁導向傳輸系統，平穩可靠; 鍍膜前有離子源對基片進(jìn)行表面清洗和活化，提高附著(zhù)力，改善膜層質(zhì)量; 真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽氣能力; 便于維修的側裝分子泵和全開(kāi)式真空室門(mén); 自行開(kāi)發(fā)的方便的用戶(hù)易操作控制軟件: 真空室的模塊式設計，單點(diǎn)定位，便于拆裝。