產(chǎn)品特點(diǎn): 該機型在多弧離子鍍膜機的基礎上配置圓柱靶或平面磁控靶，設備具備離子鍍的高離化率、高沉積速度的特點(diǎn)，同時(shí)也具備磁控濺射低溫、穩定的優(yōu)點(diǎn)，適合鍍各種復合膜層，，可以做到多復合膜層一次性完成，膜層具有很高的結合力、硬度、耐磨系數，特別適合鐘表、五金刀具、工藝品廠(chǎng)家的IPG、IPS、刀具攙雜、復合膜層的制備。   技術(shù)參數:   真空室箱體：主要規格有800*1000mm、1000*1200mm，并可以根據客戶(hù)具體要求設計非標產(chǎn)品 夾具方式 ：采用公自轉行星式齒輪結構，工件速度在1-15轉/分鐘可調。 控制氣體方式：采用質(zhì)量流量計控制，進(jìn)氣穩定，反映速度快。 靶:采用整體制造技術(shù)，嚴格縝密的磁場(chǎng)設計和磁場(chǎng)布局，濺射刻蝕均勻。 電源：配置有高頻直流電源（20KW、40KW等規格）、直流脈沖電源（電壓、占空比可調節），逆變電弧電源，并可根據實(shí)際的情況加裝離子源等輔助設施。 抽氣系統：采用國產(chǎn)品牌機械泵、羅茨泵、擴散泵，根據其真空室大小確定合理型號。也可以根據客戶(hù)的需要配備分子泵或者進(jìn)口泵等。 抽真空參數：從大氣抽至5*10??Pa≤15min 極限真空度8*10?4Pa 控制系統