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電子束蒸發(fā)與磁控濺射鍍膜的性能分析研究

2017/5/20 20:19:46 來(lái)源:

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設薄膜單位面積的附著(zhù)能為γ,則寬度為b,長(cháng)度為a的薄膜的總附著(zhù)能E=abγ(1)

用于剝離該薄膜的力F所作的功

Wp=Fa(1-sin(θ))(2)

如果是靜態(tài)剝離并忽略薄膜彎曲時(shí)所產(chǎn)生的彈性能,則F所作的功近似等于薄膜的總附著(zhù)能,即Wp=E,于是F=bγ/(1-sin(θ))(3)

(3)式中F隨著(zhù)θ角的變化而變化,不能真實(shí)反映薄膜的附著(zhù)性能。當所加剝離力與薄膜垂直,即θ=0°時(shí),則式簡(jiǎn)化為

F=bγ(4)

根據測量所得的F便可計算出附著(zhù)能γ=F/b。如果要直接計算單位長(cháng)度的附著(zhù)力f,根據定義并采用上述方法(θ=0°)進(jìn)行剝離可得f=γ??梢?jiàn),附著(zhù)力的大小和附著(zhù)能γ的數據相同,由于A(yíng)l膜的附著(zhù)能γ較高,所以其附著(zhù)力非常大。實(shí)驗測得的數據是:濺射Al膜的平均附著(zhù)力25N,電子束蒸發(fā)Al膜的平均附著(zhù)力為9.8N。這些數據和理論分析結論一致。

2.3致密性

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