1.高純氧化物薄膜材料（濺射靶材、顆粒、壓片） 氧化物 一氧化硅SiO 二氧化鉿HfO2 二氧化鋯ZrO2 二氧化鈦TiO2 OXIDE 一氧化鈦TiO 二氧化硅SiO2 三氧化二鈧Sc2O3 三氧化二鈦Ti2O3 三氧化二鋁Al2O3 五氧化二鈮Nb2O5 五氧化二鉭Ta2O5 五氧化三鈦Ti3O5 三氧化二銦In2O3 二氧化鈰CeO2 氧化鎂MgO 氧化鐠Pr6O11 三氧化鎢WO3 氧化釤Sm2O3 氧化釹Nd2O3 氧化鉍Bi2O3 氧化銻Sb2O3 氧化釩V2O5 氧化鎳NiO 氧化鋅ZnO 氧化鐵Fe2O3 氧化鉻Cr2O3 氧化銅CuO   2.高純氟化物薄膜材料（顆粒、壓片） 氟化物 氟化鎂MgF2 氟化鐿YbF3 氟化釔YF3 氟化鏑DyF3 FLUORIDE 氟化釹NdF3 氟化鉺ErF3 氟化鉀KF 氟化鍶SrF2 氟化釤SmF3 氟化鈉NaF 氟化鋇BaF2 氟化鈰CeF3 3. 特種薄膜材料（濺射靶材、顆粒）——應用太陽(yáng)能、半導體、磁性元件等，熱壓、熱等靜壓粉末冶金濺射靶材 SrAl2O4 SrAlO4 SrHfO3 SrPrO3   SrZrHfO3 L5 ATO-HP or CIP AZO-HP or CIP   鈦酸鑭LaTiO3 鈦酸鋇BaTiO3 鈦酸鍶SrTiO3 鈦酸鐠PrTiO3   冰晶石Na3AlF6 錐冰晶石Na5Al3F14 二鈦酸鐠Pr(TiO3)2 硫化鋅ZnS   硫化鎘CdS-HP 碲化鎘CdTe-HP 銅銦鎵硒CIGS-HP 鍺銻碲GST-HP   硅鉬合金MoSi-HP 二硫化鉬MoS2-HP 二硫化鎢WS2-HP 硅鈦合金SiTi-HP   鎢鈦合金WTi-HP 硅鋁合金SiAl-HP 鉬鉻合金 MoCr-HP 鋁鉻合金AlCr-HP   粉末冶金靶材種類(lèi)繁多，以上列出有代表性材料，可根據要求定做。         4.高純金屬及合金材料（濺射靶材、顆粒） 鉿靶Hf 鋯靶Zr 鈦靶Ti 鋁靶Al 鉻靶Cr 鎂靶Mg 銅靶Cu 鐵靶Fe 鈮靶Nb 錫靶Sn 鎢靶W 鉭靶Ta 鉬靶Mo 鎳靶Ni 鈷靶Co 釩靶V 鋱靶Tb 釓靶Gd 鑭靶La 鈰靶Ce 釹靶Nd 鐠靶Pr 金靶Au 銀靶Ag 鉑靶Pt 鎳鉻合金NiCr 鎳釩合金NiV 鋯鈦合金ZrTi 鈮鋯合金NbZr 鋅鎘合金ZnCd