工廠(chǎng)轉讓一臺日本OTFC-1550真空電鍍膜機使用范圍:介質(zhì)膜及金屬膜光學(xué)元件鍍膜 真空室：SUS304,Ф1550*1800MM 工件架：Ф1400 工件架轉速：10rpm to 30rpm (可變) 光學(xué)膜厚控制：HOM2- -R -VIS350A 光學(xué)膜厚監控儀：波長(cháng)范圍: 350nm to 1100nm |反射式/透射式 水晶式膜厚計：XTC/3 6點(diǎn)式水晶傳感器 蒸發(fā)源：電子槍2套 離子源：17cmRF離子源 排氣系統：機械泵2個(gè)，擴散泵Polycold (或2個(gè)冷凝泵)   性能   達到壓力：7. 0X10-5Pa以下 排氣時(shí)間：20分(大氣壓~1. 3X 10-3Pa) 基板溫度: 350C   工作條件   設備尺寸：藥500m00) x 7200m(D)X53700mm 電源：3相, 200v, 50/ 60Hz,約120KVA 水流量：180升/分以上 空氣壓力：0.5MPa以上 重量：約11000kg