半導體硅片、晶圓、晶片旋轉刷洗清洗機 產(chǎn)品描述： 1.該設備為單工位多工能清洗工藝，主要由：旋轉洗劑刷洗、旋轉噴淋漂洗及旋轉甩干三部分組成；整個(gè)清洗流程為全自動(dòng)工作方式；只需人員完成放料出即可； 2.該設備設計先進(jìn)、合理,充分考慮了環(huán)保和節能的要求； 3.采用全封閉式結構，設備封罩前、上、左右設透明鋼化玻璃；可時(shí)時(shí)觀(guān)察產(chǎn)品清洗情況； 4.設備后部設有洗劑副槽和漂洗水副槽，設備底部設有各自供液泵； 5、旋轉機構主要由：電機、旋轉基座、旋轉盤(pán)、產(chǎn)品及工裝組成； 6、旋轉盤(pán)轉速由三菱變頻器控制；  7、設封罩上設有排氣口，保持運行時(shí)的風(fēng)始終外溢，避免清洗室內產(chǎn)生水汽，也不會(huì )對清洗的產(chǎn)品產(chǎn)生二次污染； 8、設備正面設有后翻式氣缸門(mén)，供進(jìn)出料用； 9、每個(gè)工藝工序清洗、刷干時(shí)間可跟據實(shí)際情況在觸摸上設定； 應用范圍：本清洗機適合于半導體硅片、晶片、晶圓、鏡片等清洗和干燥，完全能適合千級以上的環(huán)境下使用。   斯科達SKD-103M半導體晶片硅片旋轉刷洗清洗機,玻璃晶片旋轉刷洗清洗機、硅片旋轉刷洗清洗機、旋轉清洗機、晶圓清洗機、晶片清洗設備、半導體硅片清洗機、硅片超聲波清洗機